X射线全光固体超快探测芯片调制光栅的制备方法及光栅

摘要

本发明属于超快诊断领域，提供了一种X射线全光固体超快探测芯片调制光栅的制备方法及光栅，解决现有工艺制备的调制光栅，其金属层较薄，难以制备高深宽比的光栅，不能很好实现对X射线阻挡作用的问题，该方法包括以下步骤：步骤一、以全光固体超快探测芯片外延片的外延面作为光栅材料的衬底，选择合适的光栅材料，所述光栅材料为能有效吸收X射线的金属材料；步骤二、在衬底上制备导电的金属模块，形成种子层；步骤三、在种子层上制备胶膜，采用SU‑8胶进行光刻，形成胶光栅结构；步骤四、对制备有胶光栅结构的衬底进行微电镀，形成金属光栅结构；步骤五、去除SU‑8胶，获得金属光栅。