预制气孔缺陷、内置气孔缺陷的制备方法及预制件

摘要

本发明的目的在于提供一种预制气孔缺陷的制备方法、内置气孔缺陷的制备方法及内置气孔缺陷的预制件。其中，预制气孔缺陷的制备方法包括设定缺陷区；设定所述缺陷区中的气孔缺陷的体积占比；根据所述气孔缺陷的体积占比调节卫星球粉末占比、空心粉末占比以及缺陷制备工艺参数；基于激光熔化沉积工艺，采用缺陷制备粉末以及缺陷制备工艺参数逐层打印缺陷区；其中，缺陷制备粉末的粒度在45μm至106μm之间，其中的卫星球粉末占比55‑65%，空心粉末占比2.9‑3.1%；缺陷制备工艺参数包括：激光功率600W‑1000W，扫描速率400mm/min‑800mm/min，送粉速率12g/min‑20g/min，光斑直径1mm‑2mm，扫描间距0.5mm‑1mm，层厚0.15mm‑0.2mm。