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制备具有顶栅结构和聚合物电解质介质层的二维半导体晶体管的方法

摘要

本发明属于二维半导体晶体管技术领域,具体为一种制备具有顶栅结构和聚合物电解质介质层的二维半导体晶体管的方法。本发明方法包括制备一系列堆叠结构,所述堆叠结构自下向上依次是衬底、二维半导体材料、充当源极和漏极的金属电极材料、旋涂形成的电解质介质薄膜、充当栅极的金属电极材料。所述电解质与传统介质材料相比具有更大的比电容,且所述栅极为顶栅的拓扑结构。因此,本发明方法可以解决二维半导体场效应晶体管在低工作电压、低功耗、高速电路和柔性电路上的应用问题。

著录项

  • 公开/公告号CN108376711B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-07-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 复旦大学;

    申请/专利号CN201810014816.8

  • 发明设计人 包文中;昝武;许浒;张卫;

    申请日2018-01-08

  • 分类号H01L29/786(20060101);H01L29/06(20060101);H01L21/336(20060101);

  • 代理机构31200 上海正旦专利代理有限公司;

  • 代理人陆飞;陆尤

  • 地址 200433 上海市杨浦区邯郸路220号

  • 入库时间 2022-08-23 11:06:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-28

    授权

    授权

  • 2019-01-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/786 申请日:20180108

    实质审查的生效

  • 2018-08-07

    公开

    公开

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