首页> 中国专利> 光学材料折射率均匀性的评价方法

光学材料折射率均匀性的评价方法

摘要

本发明涉及光学材料折射率均匀性的评价方法,涉及光学材料折射率均匀性评价技术领域。本发明建立了光学材料折射率均匀性缺陷与其使用影响的密切联系,提出了光学材料折射率均匀性新的评价概念、指标及其不确定度关系,并建立了这种评价关系的数学计算方法,基于所提出的数学计算方法设计了一种新的光学材料折射率均匀性的评价方法。本发明的光学材料折射率均匀性的评价方法既能真实反映光学材料使用时折射率均匀性对光学系统成像的影响,也能反映光学材料工艺技术对光学材料折射率均匀性的影响,可为光学材料均匀性的测试提供合理的评价指标和方法,也可为高成像质量的光学系统设计提供更可靠的折射率均匀性指标。

著录项

  • 公开/公告号CN109406106B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-06-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国兵器工业标准化研究所;

    申请/专利号CN201811218909.9

  • 申请日2018-10-19

  • 分类号

  • 代理机构中国兵器工业集团公司专利中心;

  • 代理人王雪芬

  • 地址 100089 北京市海淀区车道沟10号院

  • 入库时间 2022-08-23 11:03:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-30

    授权

    授权

  • 2019-03-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01M11/02 申请日:20181019

    实质审查的生效

  • 2019-03-01

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号