首页> 中国专利> 一种基于二维二硫化钼-二硫化铼异质结的光电子器件、制备方法及应用

一种基于二维二硫化钼-二硫化铼异质结的光电子器件、制备方法及应用

摘要

本发明公开了一种基于二维MoS2‑ReS2异质结的光电子器件,包括:N型本证衬底层;设置于所述N型本证衬底层上的绝缘层;设置于所述绝缘层上的MoS2层和ReS2层,所述MoS2层与所述ReS2层范德瓦尔斯接触,形成MoS2‑ReS2异质结;设置于所述ReS2层的第一金属过渡层,设置在所述MoS2层上的第二金属过渡层;以及,设置于所述第一过渡金属层和第二过渡金属层上的电极层;所述MoS2层为MoS2单晶层,所述ReS2层包括3~10层ReS2单晶层;所述第一金属过渡层的材料与多数第二金属过渡层的材料不同。还公开了一种制备上述光电子器件的方法。该光电子器件具有极低漏电流,高开关比,极强弱光探测性能。

著录项

  • 公开/公告号CN107833940B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-06-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江大学;

    申请/专利号CN201710985169.0

  • 发明设计人 吕斌;徐易扬;叶志镇;

    申请日2017-10-20

  • 分类号H01L31/109(20060101);H01L31/18(20060101);

  • 代理机构33224 杭州天勤知识产权代理有限公司;

  • 代理人胡红娟

  • 地址 310013 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号

  • 入库时间 2022-08-23 11:03:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-30

    授权

    授权

  • 2018-04-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/109 申请日:20171020

    实质审查的生效

  • 2018-03-23

    公开

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