钴铁合金在磁电容中的应用、磁电容单元、磁电容器件及其制备方法

摘要

本发明公开一种钴铁合金在磁电容中的应用，所述应用是指以钴铁合金为靶材通过磁控溅射镀膜形成多层纳米级磁性膜，作为磁电容两电极之间的磁导电层；所述钴铁合金中，钴和铁的原子比例为6.5～7.2:3.5～2.8。本发明还公开了一种磁电容单元以及磁电容器件。本发明以原子比例为6.5～7.2：3.5～2.8的钴铁合金为靶材，结合磁控溅射镀膜技术，制得的多层纳米级薄膜磁化一次就能保持良好磁性，而且在高温下也能保有良好磁性，用于半导体磁能存储电容器中，一次激活就可存储大量的电能，可用于开发无须往复充电的无源磁能超级电容器。