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一种钴铁合金靶材、磁导电层、磁电容单元、磁电容器件及其制备方法

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摘要

本发明公开一种钴铁合金靶材，用于磁控溅射渡膜，其为原子比例为6.5～8.5：3.5～1.5的钴和铁混合制成的合金。本发明还公开了由所述钴铁合金靶材制成磁导电层、磁电容单元以及磁电容器件。其由于钴的存在，由本发明所述钴铁合金靶材具有较佳的耐磨性能、切削性能和耐热性能，用于磁控溅射渡膜，制得的多层纳米级薄膜磁化一次就能保持良好磁性，而且在高温下也能保有良好磁性，用于半导体磁能存储电容器中，可使磁电容器件的储存电能量从10

著录项

公开/公告号CN109887902A

专利类型发明专利
公开/公告日2019-06-14

原文格式PDF
申请/专利权人朱广琼;燕俊羽;高湛勋;
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申请/专利号CN201910179110.1
发明设计人朱广琼;燕俊羽;高湛勋;
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申请日2019-03-11
分类号
代理机构上海领洋专利代理事务所(普通合伙);
代理人罗晓鹏
地址 200093 上海市杨浦区延吉中路118弄22号701室
入库时间 2024-02-19 11:32:30

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-08-23

发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L23/64 申请公布日:20190614 申请日:20190311

发明专利申请公布后的视为撤回
2019-07-09

实质审查的生效 IPC(主分类):H01L23/64 申请日:20190311

实质审查的生效
2019-06-14

公开

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