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化学增幅型负型抗蚀剂组合物、光固化性干膜、制备方法和图案化方法

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包含带有机硅结构的聚合物的化学增幅型负型抗蚀剂组合物形成可容易图案化的膜。经图案化的膜紧密地粘合于各种基材并且由于耐碱性和可靠性的改善适合作为电气/电子部件上的保护膜。

著录项

公开/公告号CN105487337B

专利类型发明专利
公开/公告日2020-06-05

原文格式PDF
申请/专利权人信越化学工业株式会社;
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申请/专利号CN201510639031.6
发明设计人浅井聪;竹村胜也;曾我恭子;
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申请日2015-09-29
分类号G03F7/038(20060101);G03F7/004(20060101);G03F7/00(20060101);
代理机构11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;
代理人杜丽利
地址日本东京
入库时间 2022-08-23 11:00:28

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2020-06-05

授权

授权
2017-09-01

实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/038 申请日:20150929

实质审查的生效
2016-04-13

公开

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