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导电图案的保护膜用组合物、导电图案的保护膜、保护膜制造方法及透明导电成膜的制造方法

摘要

本发明的课题是提供用于以低能量并且短时间形成保护膜的导电图案的保护膜用组合物、导电图案的保护膜、保护膜制造方法和透明导电膜的制造方法,上述保护膜具有良好的光学特性,能够维持对含有银纳米线的透明导电膜的电接触性,同时可以对该透明导电膜赋予高环境耐性。解决手段是一种导电图案的保护膜用组合物,其包含:(A)含有羧基的聚氨酯;(B)环氧化合物;(C)固化促进剂;以及(D)溶剂,上述(D)溶剂的含有率为95.0质量%以上且99.9质量%以下,且上述(D)溶剂包含(D1)沸点超过100℃的包含羟基的溶剂和(D2)沸点为100℃以下的溶剂,并且,(D2)沸点为100℃以下的溶剂在全部溶剂中的含量为30质量%以上且小于70质量%,可以将上述导电图案的保护膜用组合物在温度100℃以下、并且加热时间10分钟以下的条件下加热使其固化。

著录项

  • 公开/公告号CN109689812B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-05-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 昭和电工株式会社;

    申请/专利号CN201780055396.1

  • 发明设计人 鸟羽正彦;中泽惠理;山木繁;

    申请日2017-11-29

  • 分类号

  • 代理机构北京市中咨律师事务所;

  • 代理人段承恩

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 10:58:39

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-15

    授权

    授权

  • 2019-05-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09D175/04 申请日:20171129

    实质审查的生效

  • 2019-04-26

    公开

    公开

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