首页> 中国专利> 测量氯硅烷中痕量磷杂质含量的样品预处理装置及方法

测量氯硅烷中痕量磷杂质含量的样品预处理装置及方法

摘要

本发明涉及测量氯硅烷中痕量磷杂质含量的样品预处理装置及方法,装置依次设置有氮气供应装置、加热蒸发装置、水解装置、过滤装置、溶解装置和收集装置:氮气供应装置中设置有氮气钢瓶和节流阀,加热蒸发装置设置有加热蒸发器和加热套,水解装置设置有水解反应器和锥形气体分布器,过滤装置设置有布氏漏斗和抽滤瓶,溶解装置设置有溶解器和磁力搅拌器,收集装置设置有容量瓶,待处理四氯化硅液经四氯化硅入口进入并有节流阀控制流量。与利用ICP‑MS方法相比,本发明工艺设备简单,仅通过简易装置和紫外分光光度计即可实现四氯化硅中痕量磷杂质的检测,大大缩短送样及预约ICP‑MS等仪器时间,对于高校等研究院所,检测便利性优势明显。

著录项

  • 公开/公告号CN106644660B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-04-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津大学;

    申请/专利号CN201611039284.0

  • 发明设计人 黄国强;刘帅峰;张卿成;

    申请日2016-11-21

  • 分类号

  • 代理机构天津市北洋有限责任专利代理事务所;

  • 代理人王丽

  • 地址 300072 天津市南开区卫津路92号天津大学

  • 入库时间 2022-08-23 10:56:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-04-28

    授权

    授权

  • 2017-06-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N1/34 申请日:20161121

    实质审查的生效

  • 2017-06-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N 1/34 申请日:20161121

    实质审查的生效

  • 2017-05-10

    公开

    公开

  • 2017-05-10

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号