多层膜用蚀刻液组合物、蚀刻方法及阵列基板的制造方法

摘要

本发明提供多层膜用蚀刻液组合物、蚀刻方法及阵列基板的制造方法。该多层膜用蚀刻液组合物，包含：A)过硫酸盐0.5重量％～20.0重量％；B)氟化合物0.01重量％～2.0重量％；C)无机酸10.0重量％～15.0重量％；D)有机酸10.0～30.0重量％；E)有机酸盐0.1重量％～10.0重量％；F)环状胺化合物0.1重量％～5.0重量％；G)氨基磺酸0.1重量％～6.0重量％；H)甘氨酸0.1重量％～5.0重量％；和I)余量的水。根据本发明的多层膜用蚀刻液组合物，能够缩短整体工序时间且降低成本。