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水平喷射金属微滴飞行轨迹调控装置

摘要

本发明公开了一种水平喷射金属微滴飞行轨迹调控装置,用于解决现有金属微滴水平喷射沉积成形过程中液滴铺展对称性差的技术问题。技术方案是包括充电电极、充电电极夹持器、偏转电极上极板、偏转电极下极板、偏转电极滑钮、偏转电极夹持器、壳体、壳体夹持器、位置敏感传感器、平行光源、可编程高压发生器、工控机、信号放大器和光电传感器。所述光电传感器与平行光源正对放置;所述位置敏感传感器平行壳体中轴面放置;利用工控机控制可编程高压发生器调节充电电压U

著录项

  • 公开/公告号CN109702201B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-04-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西北工业大学;

    申请/专利号CN201910144739.2

  • 发明设计人 齐乐华;黄杰光;罗俊;张康;

    申请日2019-02-27

  • 分类号

  • 代理机构西北工业大学专利中心;

  • 代理人王鲜凯

  • 地址 710072 陕西省西安市友谊西路127号

  • 入库时间 2022-08-23 10:54:06

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-04-03

    授权

    授权

  • 2019-05-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):B22F3/115 申请日:20190227

    实质审查的生效

  • 2019-05-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):B22F 3/115 申请日:20190227

    实质审查的生效

  • 2019-05-03

    公开

    公开

  • 2019-05-03

    公开

    公开

  • 2019-05-03

    公开

    公开

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