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一种高临界电流密度MgB2基超导体及其制备方法

摘要

本发明涉及一种高临界电流密度MgB2基超导体及其制备方法。其特征在于该超导体为在MgB2基超导体中弥散分布着碳、锆及其化合物。制备过程为首先将干燥的镁、硼、锆和碳粉末按比例充分混合1-2小时,将混合后的粉末成型,然后置于真空退火炉中,在纯氩气或氩气与氢气的混合气保护下,在740℃-760℃的温度下保温1-10小时,最后冷却至室温,制成高临界电流密度的MgB2基超导体。采用碳和金属锆作为助烧剂,碳、锆及其化合物弥散分布在最终获得的MgB2基超导体中,使最终形成的MgB2晶粒细化,有效强化了MgB2晶粒连接。本发明的方法制备成本低,同时引入了第二相粒子,有效改善了MgB2基超导体的磁通钉扎。

著录项

  • 公开/公告号CN100354986C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2007-12-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西北有色金属研究院;

    申请/专利号CN200510132726.1

  • 申请日2005-12-28

  • 分类号H01B12/00(20060101);H01B13/00(20060101);H01L39/12(20060101);H01L39/24(20060101);C01F5/00(20060101);C01B35/04(20060101);

  • 代理机构中国有色金属工业专利中心;

  • 代理人李迎春;王连发

  • 地址 710016 陕西省西安市北关方新村西安市51号箱

  • 入库时间 2022-08-23 09:00:11

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2007-12-12

    授权

    授权

  • 2006-09-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-08-02

    公开

    公开

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