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一种双85抗PID多晶太阳能电池片的制作工艺

摘要

本发明提供了一种双85抗PID多晶太阳能电池片的制作工艺。它解决了现有光伏组件的PID现象较为严重,造成电池片和组件功率出现大幅度下降等技术问题。本双85抗PID多晶太阳能电池片的制作工艺,包括如下步骤:a、将经过清洗制绒、扩散、刻蚀后的晶体硅片通过臭氧发生装置在晶体硅片表面生成一层1‑2nm的SiO2氧化膜;b、将步骤a中完成的晶体硅片通过装卸片系统装到石墨舟上,将其放入管式PECVD进行预沉积;c、将步骤b中完成后的晶体硅片用管式PECVD进行沉积;d、将步骤c中完成后的晶体硅片用管式PECVD进行再次沉积;e、通过装卸片系统对石墨舟的晶体硅片进行冷却,并将晶体硅片取下。本发明具有产品性能好的优点。

著录项

  • 公开/公告号CN107093652B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-02-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江光隆能源科技股份有限公司;

    申请/专利号CN201710486047.7

  • 申请日2017-06-23

  • 分类号

  • 代理机构嘉兴永航专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人蔡鼎

  • 地址 314406 浙江省嘉兴市海宁市斜桥镇新建路8号

  • 入库时间 2022-08-23 10:51:33

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-02-21

    授权

    授权

  • 2017-09-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/18 申请日:20170623

    实质审查的生效

  • 2017-09-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 31/18 申请日:20170623

    实质审查的生效

  • 2017-08-25

    公开

    公开

  • 2017-08-25

    公开

    公开

  • 2017-08-25

    公开

    公开

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