法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-02-21
授权
授权
2018-06-12
实质审查的生效 IPC(主分类):H04N5/365 申请日:20171219
实质审查的生效
2018-06-12
实质审查的生效 IPC(主分类):H04N 5/365 申请日:20171219
实质审查的生效
2018-05-18
公开
公开
2018-05-18
公开
公开
2018-05-18
公开
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机译: 使用微电机系统(MEMS)微镜阵列(MMS)的有源模式成像传感器的光学非均匀性校正(NUC)
机译: 补偿由均匀性补偿器漂移ETC引起的均匀性漂移的光刻设备。通过包括均匀性校正系统,设备的制造方法和均匀性校正系统
机译: 校正传感器阵列中的响应非均匀性