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一种用于在位监测微孔电火花加工的工业相机微调支架

摘要

本发明公开了一种用于在位监测微孔电火花加工的工业相机微调支架,属于电火花特种加工领域,包括磁力座、X轴滑台、矩形孔支架用底座、线性滑轨、支架固定竖梁、支架移动竖梁、相机固定座和工业相机。X轴滑台置于磁力座之上;矩形孔支架用底座固定在X轴滑台上,矩形孔支架能够随X轴滑台的移动而移动;工业相机通过装置合适的镜头与极间位置的距离,通过手动或者自动聚焦来的显现清晰图像。该支架装置结构简单、占用空间小、微调范围大;在线性滑轨的滑块后加入止滑块减少垂直向上移动时受到向下的阻力;在静止时,锁紧螺丝来保持支架移动竖梁的稳定。

著录项

  • 公开/公告号CN107763411B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-02-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京工业大学;

    申请/专利号CN201711008029.4

  • 发明设计人 王建华;李文晴;刘志峰;李迎;

    申请日2017-10-25

  • 分类号

  • 代理机构北京思海天达知识产权代理有限公司;

  • 代理人沈波

  • 地址 100124 北京市朝阳区平乐园100号

  • 入库时间 2022-08-23 10:49:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-02-04

    授权

    授权

  • 2018-03-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):F16M13/02 申请日:20171025

    实质审查的生效

  • 2018-03-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):F16M 13/02 申请日:20171025

    实质审查的生效

  • 2018-03-06

    公开

    公开

  • 2018-03-06

    公开

    公开

  • 2018-03-06

    公开

    公开

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