首页> 中国专利> 一种反应等离子熔覆原位合成TiN涂层的制备方法

一种反应等离子熔覆原位合成TiN涂层的制备方法

摘要

本发明公开了一种反应等离子熔覆原位合成TiN复合涂层的制备方法,该方法包括以下步骤:(1)Ti粉原料处理;(2)模具表面预处理;(3)熔覆,由Ti粉原料和送粉气N

著录项

  • 公开/公告号CN104264151B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-01-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国人民解放军装甲兵工程学院;

    申请/专利号CN201410539877.8

  • 发明设计人 王海斗;邢志国;崔华威;金国;

    申请日2014-10-13

  • 分类号

  • 代理机构北京华圣典睿知识产权代理有限公司;

  • 代理人陈国伟

  • 地址 100072 北京市丰台区杜家坎21号

  • 入库时间 2022-08-23 10:48:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-01-07

    授权

    授权

  • 2017-08-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C24/10 申请日:20141013

    实质审查的生效

  • 2017-08-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 24/10 申请日:20141013

    实质审查的生效

  • 2015-01-07

    公开

    公开

  • 2015-01-07

    公开

    公开

  • 2015-01-07

    公开

    公开

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