公开/公告号CN106405372B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-01-10
原文格式PDF
申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;
申请/专利号CN201610703019.1
申请日2016-08-22
分类号
代理机构上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人吴世华
地址 201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号
入库时间 2022-08-23 10:48:06
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-01-10
授权
授权
2017-03-15
实质审查的生效 IPC(主分类):G01R31/28 申请日:20160822
实质审查的生效
2017-03-15
实质审查的生效 IPC(主分类):G01R 31/28 申请日:20160822
实质审查的生效
2017-02-15
公开
公开
2017-02-15
公开
公开
机译: 原位放电以避免在等离子蚀刻过程中产生电弧
机译: 原位放电以避免在等离子蚀刻过程中产生电弧
机译: 电弧放电保护装置-避免因电弧放电效应而在外围组件上产生火花或燃烧