首页> 中国专利> 共轴调节装置及使用该装置的共轴调节方法

共轴调节装置及使用该装置的共轴调节方法

摘要

本发明涉及半导体生产和加工领域。本发明提供了一种共轴调节装置,用于在半导体设备中对晶圆固定盘和喷头进行共轴调节,该共轴调节装置包括晶圆固定盘、定位板、定位座、喷头以及激光器件;其中的晶圆固定盘能够在竖直方向上升或下降,并在水平方向沿着X轴、Y轴平移,晶圆固定盘上开有定位孔,用于安装定位板;定位板的下方设置有遮挡物,该遮挡物上开有至少两条狭缝,两条狭缝的相交线在晶圆固定盘的中心轴Z上;其中的喷头开有安装孔,定位座通过安装孔和定位柱安装于喷头,定位座上搭载有激光器件的发射部和接收部。

著录项

  • 公开/公告号CN105990203B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-12-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 盛美半导体设备(上海)有限公司;

    申请/专利号CN201510081687.0

  • 发明设计人 代迎伟;金一诺;王坚;王晖;

    申请日2015-02-15

  • 分类号H01L21/68(20060101);H01L21/67(20060101);H01L21/02(20060101);

  • 代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人施浩

  • 地址 201203 上海市浦东新区中国上海张江高科技园区蔡伦路1690号第4幢

  • 入库时间 2022-08-23 10:46:36

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-03-27

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L21/68 变更前: 变更后: 申请日:20150215

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2019-12-24

    授权

    授权

  • 2019-12-24

    授权

    授权

  • 2018-02-09

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/68 申请日:20150215

    实质审查的生效

  • 2018-02-09

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/68 申请日:20150215

    实质审查的生效

  • 2018-02-09

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/68 申请日:20150215

    实质审查的生效

  • 2016-10-05

    公开

    公开

  • 2016-10-05

    公开

    公开

  • 2016-10-05

    公开

    公开

  • 2016-10-05

    公开

    公开

查看全部

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号