首页> 中国专利> 用于等离子体反应器中的射频去耦和偏压控制的设备和方法

用于等离子体反应器中的射频去耦和偏压控制的设备和方法

摘要

提供了一种用于在宽范围内控制偏压和用于对双射频电流进行去耦以允许独立地控制用于处理基板的等离子体的等离子体密度和离子能量的方法和设备。示例性的设备提供了等离子体处理室,该等离子体处理室包括被配置得保持一基板的底部电极和连接于底部电极的第一和第二射频电源。还包括与顶部地线延伸部电隔离的顶部电极。包括限定一组滤波器装置的滤波器阵列。一开关耦合于顶部电极并且该开关被配置得将顶部电极互连到一个滤波器装置。滤波器装置被配置得允许或禁止由第一和第二射频电源的一个或两个所产生的射频电流流过顶部电极。

著录项

  • 公开/公告号CN100353816C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2007-12-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 拉姆研究公司;

    申请/专利号CN02813070.7

  • 发明设计人 安德瑞斯·费舍尔;

    申请日2002-06-27

  • 分类号H05H1/00(20060101);H01L21/3065(20060101);H01J37/32(20060101);

  • 代理机构11127 北京三友知识产权代理有限公司;

  • 代理人李辉

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 09:00:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2007-12-05

    授权

    授权

  • 2005-07-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-05-25

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号