首页> 中国专利> 使硫族化物界面电阻最小化的电极材料和界面层

使硫族化物界面电阻最小化的电极材料和界面层

摘要

公开了具有降低的电极‑硫族化物界面电阻的相变存储器单元和用于制作相变存储器单元的方法。在电极层与硫族化物层之间形成界面层,其在基于硫族化物的相变存储器层与电极层之间提供降低的电阻。示范性实施例提供界面层包括碳化钨、碳化钼、硼化钨或硼化钼或其组合。在一个示范性实施例中,界面层包括在约1nm与约10nm之间的厚度。

著录项

  • 公开/公告号CN105593994B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-12-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 英特尔公司;

    申请/专利号CN201480055369.0

  • 发明设计人 F.D.吉利;A.戈蒂;D.科隆波;张国维;

    申请日2014-10-23

  • 分类号H01L45/00(20060101);H01L27/24(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人张金金;付曼

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 10:45:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-17

    授权

    授权

  • 2016-06-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/115 申请日:20141023

    实质审查的生效

  • 2016-06-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 27/115 申请日:20141023

    实质审查的生效

  • 2016-05-18

    公开

    公开

  • 2016-05-18

    公开

    公开

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