在基板上形成膜层的方法和在基板上形成膜层的设备

摘要

本发明公开了一种在基板上形成膜层的方法及设备。方法包括：在检测区域设置检测板，检测板包括至少一个检测单元，每个检测单元都包括间隔设置的第一检测电极和第二检测电极；形成膜层，包括目标膜层和检测膜层，检测膜层填充满第一检测电极和第二检测电极之间的间隔；在形成膜层的过程中，检测所述检测膜层的厚度，根据厚度以及成膜时间，计算已经形成的膜层的成膜速率，根据该成膜速率，调节当前的成膜速率。能够准确检测基板上所形成检测膜层的厚度，并根据检测膜层的厚度以及成膜速率指导目标膜层的生产工艺，有效提高生产速率，提高膜层的工艺良率。