等离子体表面处理设备和等离子体设备腔体结构

摘要

本发明涉及真空设备领域，公开了一种等离子体表面处理设备和等离子体设备腔体结构，等离子体设备腔体结构包括：料盒、射频电极和接地电极；等离子体表面处理设备包括设置有进气模块和抽气口的真空等离子腔体，真空等离子腔体内设置有料盒、射频电极和接地电极。料盒内装有多个标的物，这些标的物在料盒内间隔设置，并使任意相邻的两个标的物之间预留有供气流通过的间隙；料盒的侧壁上设置有若干个通风槽，通风槽和间隙数量相对应设置，使得通风槽和间隙共同构成了经过标的物表面的气流通道；射频电极位于料盒的一侧，且正对气流通道；接地电极至少有一部分位于接地电极位于料盒的另一侧，且正对气流通道。本发明能够提高标的物的表面处理效果。