校准CVD或PVD反应器的高温计装置的方法

摘要

本发明涉及校准高温计装置的方法，该高温计装置用于测量搁置在CVD或PVD反应器的基座上的基板的表面温度，其中该高温计装置具有第一高温计，其在带宽小于20nm的窄谱范围内是灵敏的，且经出厂预校准或在预校准步骤中被预校准；和至少一个第二高温计，其在带宽大于100nm的第二宽带谱范围内是灵敏的，其中在第一步骤中校准所述第一高温计，并在第二步骤中将基座或校准元件调温至校准温度，或依次调温至多个不同的校准温度(Tl、T2、T3、T4)，用所述第一高温计测量该校准温度，并将该温度用作参考点(Sl、S2、S3、S4)来测定所述第二高温计的特性曲线。