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混合研磨剂抛光组合物及其使用方法

摘要

本发明提供一种抛光组合物,其包含(i)一种研磨剂,其包含(a)5至45重量%莫氏硬度为8或更大的第一研磨剂粒子,(b)1至45重量%具有含有较小初级粒子聚集体的三维结构的第二研磨剂粒子,及(c)10至90重量%包含硅石的第三研磨剂粒子,和(ii)液体载体。本发明还提供一种抛光基板的方法,该方法包含(i)提供上述抛光组合物,(ii)提供具有表面的基板,并(iii)以该抛光组合物研磨至少一部分基板表面以抛光该基板等步骤。

著录项

  • 公开/公告号CN100355846C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2007-12-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 卡伯特微电子公司;

    申请/专利号CN200480003457.2

  • 发明设计人 阿特纳福·N·查尼耶利夫;孙韬;

    申请日2004-02-04

  • 分类号C09G1/02(20060101);C09K3/14(20060101);H01L21/321(20060101);H01L21/768(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人宋莉;贾静环

  • 地址 美国伊利诺伊州

  • 入库时间 2022-08-23 08:59:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2007-12-19

    授权

    授权

  • 2006-05-10

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-03-15

    公开

    公开

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