公开/公告号CN100341948C
专利类型发明授权
公开/公告日2007-10-10
原文格式PDF
申请/专利权人 科学工业研究院;
申请/专利号CN00137291.2
申请日2000-12-29
分类号
代理机构永新专利商标代理有限公司;
代理人林晓红
地址 印度新德里
入库时间 2022-08-23 08:59:58
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-12-14
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C09B 13/00 授权公告日:20071010 终止日期:20171229 申请日:20001229
专利权的终止
2007-10-10
授权
授权
2007-10-10
授权
授权
2003-07-09
发明专利申请公开说明书更正 卷:18 号:31 页码:扉页 更正项目:发明名称 误:较重卤原子取代的斯夸苷基染料，其制备方法及其在光动力的治疗和工业应用中作为敏化剂用途 正:较重卤原子取代的斯夸苷基染料，其制备方法及其在光动力的治疗和工业应用中作为敏化剂的用途 申请日:20001229
发明专利申请公开说明书更正
2003-07-09
发明专利公报更正更正 卷:18 号:31 页码:72 更正项目:发明名称 误:较重卤原子取代的斯夸苷基染料，其制备方法及其在光动力的治疗和工业应用中作为敏化剂用途 正:较重卤原子取代的斯夸昔摹染料，其制备方法及其在光动力的治疗和工业应用中作为敏化剂的用途 申请日:20001229
发明专利公报更正
2003-07-09
发明专利申请公开说明书更正 卷:18 号:31 页码:扉页 更正项目:发明名称 误:较重卤原子取代的斯夸苷基染料，其制备方法及其在光动力的治疗和工业应用中作为敏化剂用途 正:较重卤原子取代的斯夸苷基染料，其制备方法及其在光动力的治疗和工业应用中作为敏化剂的用途 申请日:20001229
发明专利申请公开说明书更正
2003-07-09
发明专利公报更正更正 卷:18 号:31 页码:72 更正项目:发明名称 误:较重卤原子取代的斯夸苷基染料，其制备方法及其在光动力的治疗和工业应用中作为敏化剂用途 正:较重卤原子取代的斯夸昔摹染料，其制备方法及其在光动力的治疗和工业应用中作为敏化剂的用途 申请日:20001229
发明专利公报更正
2002-07-31
公开
公开
2002-07-31
公开
公开
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机译： 较重的卤原子取代的方酸菁基染料，其制备方法及其在光动力，治疗和工业应用中用作敏化剂的用途
机译： 较重的卤原子取代的方酸菁基染料，其制备方法及其在光动力，治疗和工业应用中用作敏化剂的用途
机译： 新型较重的卤素原子取代的方酸方烷染料，在光动力治疗应用中用作光敏剂，肿瘤的荧光检测器和水灭菌中的敏化剂
