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化学气相淀积法含氟聚合物介电中间层

摘要

公开了在薄膜器件上形成含氟聚合物层的方法,包含使所述薄膜器件与气相含氟单体接触并用自由基聚合引发剂引发所述含氟单体的聚合,由此,所述含氟单体在所述薄膜器件上聚合成所述含氟聚合物层。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-08-11

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/312 授权公告日:20070905 终止日期:20160621 申请日:20020621

    专利权的终止

  • 2007-09-05

    授权

    授权

  • 2007-09-05

    授权

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  • 2005-08-17

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-08-17

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-06-15

    公开

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  • 2005-06-15

    公开

    公开

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