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磁共振成像装置、RF匀场方法以及磁共振成像方法

摘要

为了MRI装置的摄像部使用包含对第一区域进行激励的预备RF脉冲、和对与上述第一区域不同的第二区域进行激励的激励RF脉冲在内的高频脉冲来收集NMR信号,算出对由从多个通道照射的高频脉冲产生的照射磁场分布进行调整的匀场参数的匀场参数算出部对预备RF脉冲和激励RF脉冲分别设定不同的匀场参数,摄像部使用以不同的匀场参数调整后的预备RF脉冲和激励RF脉冲来进行摄像。

著录项

  • 公开/公告号CN106940431B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-09-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社日立制作所;

    申请/专利号CN201611106574.2

  • 发明设计人 伊藤公辅;泷泽将宏;

    申请日2016-12-05

  • 分类号G01R33/44(20060101);G01R33/483(20060101);G01R33/387(20060101);A61B5/026(20060101);A61B5/055(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人柯瑞京

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 10:39:36

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-09-03

    授权

    授权

  • 2017-08-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01R33/44 申请日:20161205

    实质审查的生效

  • 2017-08-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01R 33/44 申请日:20161205

    实质审查的生效

  • 2017-07-11

    公开

    公开

  • 2017-07-11

    公开

    公开

  • 2017-07-11

    公开

    公开

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