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在具有垂直射束角装置的离子注入系统中测量垂直射束轮廓的方法

摘要

本发明涉及一种离子注入系统的测量系统,该测量系统可以具有绕轴线(184)旋转的扫描臂(166)以及使工件平移通过离子束(112)的工件支撑件(168)。第一测量构件(162)可以位于扫描臂下游并且提供来自离子束的第一信号。具有遮罩(190)和阻挡板(202)的第二测量构件(164)可以耦合(182)至扫描臂以随着扫描臂旋转提供来自离子束的第二信号,其中,遮罩基于遮罩与离子束之间的角取向而允许离子束中不同数量的离子辐射进入法拉第杯(200);并且阻挡板基于扫描臂旋转来选择性阻挡到法拉第杯的离子束。控制器被配置成至少部分基于来自测量构件的一个或多个信号来确定离子束的尺寸以及离子束与工件之间的相对取向。

著录项

  • 公开/公告号CN107112185B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-08-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 艾克塞利斯科技公司;

    申请/专利号CN201580070453.4

  • 发明设计人 舒·佐藤;

    申请日2015-12-28

  • 分类号

  • 代理机构北京中原华和知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人刘新宇

  • 地址 美国马萨诸塞州比佛利市

  • 入库时间 2022-08-23 10:38:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-08-13

    授权

    授权

  • 2017-12-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/304 申请日:20151228

    实质审查的生效

  • 2017-12-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/304 申请日:20151228

    实质审查的生效

  • 2017-08-29

    公开

    公开

  • 2017-08-29

    公开

    公开

  • 2017-08-29

    公开

    公开

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