淀积碳的微波增强化学气相淀积方法

摘要

本发明涉及用化学汽相淀积(CVD)法在基片上淀积含氮的碳质薄膜。将基片放入反应室，经抽真空，然后输入含碳的生产气体和含氮的添加气体到反应室中，并在0.1-300乇的压强下，在反应室加上能产生适宜的微波能量和磁场强度，就可在基片上淀积一层金刚石或金刚石状碳(DLC)薄膜。这种薄膜的硬度高，而且耐磨性和熔点高。