一种基于仿射变换单应矩阵的投影套刻对位系统及其对准方法

摘要

本发明涉及一种利用仿射变换单应矩阵实现的投影光刻对位系统及其对准方法。本发明的硬件系统部分包括紫外准分子激光器(1)、照明系统(2)、平移台(3)、掩模板(4)、投影物镜组(5)、硅板(6)、对焦与扫描曝光装置(7)、旋转平移三自由度微调对位装置(8)、拍摄掩模图的第一图像传感器(9)、拍摄硅板图的第二图像传感器(10)。本发明的对准算法部分，采用了数字图像处理中的机器视觉技术，利用理论上首次提出的仿射变换单应矩阵计算式，实现掩模图、硅片图特征标记的相对平移旋转量的计算，以取代基于随机抽样一致的迭代单应矩阵实现特征点匹配的计算过程，可显著提高对准时效。本发明已成功使用在投影式光刻机中，其对准速度与精度对比传统的特征点匹配方法有一个数量级的提高，可实现工业系统所要求的实时对准要求。