基于衍射的套刻测量标记、套刻测量方法和测量装置

摘要

一种基于衍射的套刻测量标记、套刻测量方法和测量装置，其中所述基于衍射的套刻测量标记包括:第一基准光栅和第二基准光栅；位于第一基准光栅的延伸方向上，且相对于其在第一方向的正向上偏移的第三基准光栅，位于第二基准光栅的延伸方向上，且相对于其在第一方向的负向上偏移的第四基准光栅；位于第一基准光栅上方，且相对于其在第一方向的正向上偏移的第一比较光栅；位于第二基准光栅上方，且相对于其在第一方向的负向上偏移的第二比较光栅；位于第三基准光栅上方，且相对于其在第一方向的负向上偏移的第三比较光栅；位于第四基准光栅上方，且相对于其在第一方向的正向上偏移的第四比较光栅。本发明的套刻测量标记提高了套刻测量的精度。