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蒙脱土原位有机化制备聚合物/蒙脱土纳米复合材料的方法

摘要

本发明属于聚合物纳米材料领域,特别涉及到蒙脱土原位有机化制备聚合物/蒙脱土纳米复合材料的方法。在非水溶剂中用咪唑类或吡啶类有机盐作为有机改性剂,实现蒙脱土的有机化与剥离分散,形成有机蒙脱土粒子尺寸在纳米范围内的胶体溶液。选用性质不同的溶剂和分子结构不同的有机盐可满足制备不同性能的聚合物/蒙脱土纳米复合材料的要求。与其它有机改性剂相比较,咪唑类或吡啶类有机盐具有较高的热稳定性,较低的饱和蒸气压,并且离子交换后与蒙脱土片层间有较强的结合力,有利于提高蒙脱土与聚合物材料之间的相容性和复合材料的热稳定性。

著录项

  • 公开/公告号CN100347201C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2007-11-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院化学研究所;

    申请/专利号CN200410009584.5

  • 发明设计人 董金勇;丁运生;王志刚;

    申请日2004-09-20

  • 分类号C08F2/44(20060101);C08F10/00(20060101);C08K13/02(20060101);C08L23/00(20060101);

  • 代理机构31002 上海智信专利代理有限公司;

  • 代理人李柏

  • 地址 100080 北京市海淀区中关村北一街2号

  • 入库时间 2022-08-23 08:59:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-11-18

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

  • 2007-11-07

    授权

    授权

  • 2006-05-24

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-03-29

    公开

    公开

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