公开/公告号CN105783708B
专利类型发明专利
公开/公告日2019-05-28
原文格式PDF
申请/专利权人 财团法人工业技术研究院;
申请/专利号CN201410804432.8
申请日2014-12-22
分类号
代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司;
代理人徐金国
地址 中国台湾新竹县竹东镇中兴路四段195号
入库时间 2022-08-23 10:32:54
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-05-28
授权
授权
2016-08-17
实质审查的生效 IPC(主分类):G01B11/00 申请日:20141222
实质审查的生效
2016-08-17
实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 11/00 申请日:20141222
实质审查的生效
2016-07-20
公开
公开
2016-07-20
公开
公开
机译: 光学邻近校正方法,光学邻近校正装置和光学邻近校正程序,制造半导体装置的方法,设计规则制定方法以及光学邻近校正条件计算方法
机译: 光学邻近效应校正方法,光学邻近效应校正装置,光学邻近效应校正程序,制造半导体装置的方法,图案设计限制开发方法和光学邻近效应校正的计算方法
机译: 光学邻近校正方法,光学邻近校正设备和光学邻近校正程序,半导体器件的制造方法,设计规则制定方法和光学邻近校正条件计算方法