法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2006-09-20
专利权的终止未缴年费专利权终止
专利权的终止未缴年费专利权终止
1998-04-22
授权
授权
1996-01-24
公开
公开
1996-01-03
实质审查请求的生效
实质审查请求的生效
1995-12-27
实质审查请求的生效
实质审查请求的生效
机译: 气相合成生产氧化硅基陶瓷膜的方法和装置
机译: 通过激光加工将碳化硅基板制造方法,碳化硅基板和去除碳化硅基板中的应变层的方法
机译: 改善了间隙恢复性能的用于半导体微小间隙恢复的有机硅烷类聚合物和利用该有机硅基聚合物用于半导体微小间隙恢复的涂层成分