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用于光致抗蚀的保护涂层组合物和用其形成光致抗蚀图案的方法

摘要

本发明公开用于光致抗蚀的保护涂层组合物及使用该组合物的方法。详言之,公开包含可稳定地将酸变弱的材料的用于光致抗蚀的保护涂层组合物。该等材料中和大量在光致抗蚀薄膜顶部所产生的酸,以使该酸的垂直分布一致化。结果可得到小于100nm厚度的垂直且精细的图案。

著录项

  • 公开/公告号CN1333307C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2007-08-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 海力士半导体有限公司;

    申请/专利号CN200410063569.9

  • 发明设计人 郑载昌;

    申请日2004-07-12

  • 分类号G03F7/004(20060101);G03F7/20(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人张平元;赵仁临

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2022-08-23 08:59:33

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-08-27

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/004 授权公告日:20070822 终止日期:20130712 申请日:20040712

    专利权的终止

  • 2007-08-22

    授权

    授权

  • 2005-06-29

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-04-27

    公开

    公开

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