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基于双波面干涉条纹阵列大面积光学轮廓测量装置和方法

摘要

本发明公开了一种基于双波面干涉条纹阵列大面积光学轮廓测量装置和方法;其包括半导体激光器、透镜、平行平板组、CCD相机及数据处理单元。本发明采用非平行的相关光源,通过透镜和平行平板组组成的光学系统向待测量物体投影大面积干涉条纹,并由CCD相机接收经待测量物体所调制的畸变干涉条纹阵列图像,再利用数据处理单元进行图像处理,重建待测量物体表面三维轮廓,实现对待测量物体光学轮廓测量,具有快速、非接触、高精度、大面积的特点,具有广阔的应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN105865369B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-03-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN201610343470.7

  • 发明设计人 余学才;肖景天;任华西;王晓庞;

    申请日2016-05-23

  • 分类号

  • 代理机构成都宏顺专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人周永宏

  • 地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号

  • 入库时间 2022-08-23 10:27:28

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-15

    授权

    授权

  • 2016-09-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B11/24 申请日:20160523

    实质审查的生效

  • 2016-09-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 11/24 申请日:20160523

    实质审查的生效

  • 2016-08-17

    公开

    公开

  • 2016-08-17

    公开

    公开

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