首页> 中国专利> 在基板支架的两个相背离的宽侧分别支承基板的基板支架

在基板支架的两个相背离的宽侧分别支承基板的基板支架

摘要

本发明涉及一种基板支架和一种与基板支架共同作用的CVD反应器,用于布置在CVD反应器或PVD反应器(20)内,尤其用于沉积碳纳米管和石墨,所述基板支架具有用于容纳待涂覆的基板(6)的第一宽侧面(2)和与第一宽侧面(2)相背离的第二宽侧面(3)。为了优化用于沉积碳纳米管的设备或设备的部件,在此建议,所述第一宽侧面(2)和第二宽侧面(3)分别具有基板容纳区域(4、5),在所述基板容纳区域(4、5)中设有固定件(14、14’、15),基板(6)或基板(6)的区段借助所述固定件(14、14’、15)能够固定在相应的宽侧面(2、3)上。此外,本发明还涉及一种具有基板支架(1)的CVD反应器。

著录项

  • 公开/公告号CN106133187B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-03-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 艾克斯特朗欧洲公司;

    申请/专利号CN201580015942.X

  • 申请日2015-03-18

  • 分类号

  • 代理机构北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人侯宇

  • 地址 德国黑措根拉特

  • 入库时间 2022-08-23 10:27:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-12

    授权

    授权

  • 2017-03-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/50 申请日:20150318

    实质审查的生效

  • 2017-03-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/50 申请日:20150318

    实质审查的生效

  • 2016-11-16

    公开

    公开

  • 2016-11-16

    公开

    公开

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