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一种消影结构、触摸屏及其制备方法

摘要

本发明实施例提供了一种消影结构、触摸屏及其制备方法,属于显示触控领域,能够有效消除氧化铟锡层刻蚀形成图形后所形成的蚀刻纹。所述消影结构包括依次设在透明基板上的氮氧化硅层、氧化铟锡层和二氧化硅层。本发明可用于触摸屏的制作中。

著录项

  • 公开/公告号CN104635991B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-01-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201510106334.1

  • 发明设计人 都智;胡明;

    申请日2015-03-11

  • 分类号G06F3/041(20060101);G06F3/044(20060101);

  • 代理机构11274 北京中博世达专利商标代理有限公司;

  • 代理人申健

  • 地址 230011 安徽省合肥市新站区站前路99号南海大厦502室

  • 入库时间 2022-08-23 10:23:22

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-11

    授权

    授权

  • 2015-06-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F3/041 申请日:20150311

    实质审查的生效

  • 2015-06-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 3/041 申请日:20150311

    实质审查的生效

  • 2015-05-20

    公开

    公开

  • 2015-05-20

    公开

    公开

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