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未达到精度要求的中阶梯光栅闪耀角再次精密加工方法

摘要

本发明涉及一种未达到精度要求的中阶梯光栅闪耀角再次精密加工方法,包括闪耀角偏小和闪耀角偏大两种误差的精密加工方法。当中阶梯光栅闪耀角偏小时,通过离子束溅射,使Al原子以特定方式沉积在闪耀面上,增大闪耀角,达到所需要求。当中阶梯光栅闪耀角偏大时,通过离子束刻蚀闪耀面,使闪耀角减小,达到所需要求。在传统方法制作的中阶梯光栅的基础上,通过离子束刻蚀和Al原子沉积修复闪耀角,可以实现中阶梯光栅闪耀角的精密加工,使每一块刻划或复制的中阶梯光栅都能正常使用。

著录项

  • 公开/公告号CN106405701B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-12-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海理工大学;

    申请/专利号CN201611020777.X

  • 申请日2016-11-21

  • 分类号

  • 代理机构上海申汇专利代理有限公司;

  • 代理人吴宝根

  • 地址 200093 上海市杨浦区军工路516号

  • 入库时间 2022-08-23 10:22:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-12-14

    授权

    授权

  • 2017-03-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B5/18 申请日:20161121

    实质审查的生效

  • 2017-03-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 5/18 申请日:20161121

    实质审查的生效

  • 2017-02-15

    公开

    公开

  • 2017-02-15

    公开

    公开

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