小闪耀角凸面闪耀光栅的研究与制备

摘要

本文围绕小闪耀角凸面闪耀光栅的制作方法,对离子束束散角和涂层修整槽形展开了理论和实验研究,主要包含以下几方面的内容:
　　首先介绍了凸面闪耀光栅的意义和国内外凸面光栅的研究进展,综合叙述了离子束刻蚀技术和Kaufman离子源系统的工作原理。深入研究了光刻胶、K9玻璃和石英三种光学材料的刻蚀特性,以氩气为工作气体,得到了三种材料刻蚀速率与入射角度的拟合方程,为离子束束散角的研究提供了基础。
　　详细介绍了离子束束散角的计算以及束散角对刻蚀闪耀角的影响。提出了闪耀光栅闪耀角达到4°以后很难进一步减小可能是受离子束束散角影响的设想,并进行了理论分析和实验验证。通过遮挡刻蚀改良离子源准直性,在平面基底和凸面基底上制得了闪耀角2.8°和3.4°的闪耀光栅,在原有工艺的基础上,将闪耀角降低。
　　通过对已有闪耀角4°左右的闪耀光栅进行旋转涂布和提拉涂布光刻胶,进一步降低闪耀角。验证了不同旋涂、提拉速度和光刻胶溶剂浓度对最终实验结果的影响。得到了闪耀角减小量与涂层胶厚的拟合方程。分别通过旋转和提拉涂布制得闪耀角1.85°,反闪耀角11.1°和闪耀角1.81°,反闪耀角12.7°的凸面闪耀光栅。

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第一章 绪论

1.1 引言

1.2 课题背景及研究意义

1.3 凸面光栅在国内外的研究状况

第二章 离子束刻蚀技术及闪耀光栅的制作

2.1离子束刻蚀技术

2.2闪耀光栅的制作

第三章 直接刻蚀制备小闪耀角闪耀光栅

3.1 引言

3.2离子束束散角分析

3.3实验验证束散角影响

3.4小结

第四章 旋转涂布和提拉涂布光刻胶制备小闪耀角凸面闪耀光栅

4.1引言

4.2旋转涂布制备小闪耀角凸面闪耀光栅

4.3提拉涂布制备小闪耀角凸面闪耀光栅[38-43]

4.4 衍射效率测量与分析

第五章 总结与展望

5.1论文工作总结

5.2 展望

参考文献

攻读学位期间发表的论文

致谢