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曝光方法、曝光裝置、及元件制造方法

摘要

曝光方法、曝光裝置、及元件制造方法。本发明提供一种搬送系统,具备保持被载置的晶片(W)且能沿既定平面移动的微动载台(WFS)、从上方以非接触方式保持晶片且能垂直地移动的夹具本体(130)、以及能在微动载台(WFS)上从下方支承被夹具本体(130)保持的晶片且能垂直移动的垂直动销(140)。又,控制装置,一边维持通过夹具本体对晶片的保持状态以及维持垂直动销对晶片的支承状态,一边驱动夹具本体及垂直动销下降直到晶片下面接触微动载台(WFS)为止,以及解除上述保持状态及支承状态。

著录项

  • 公开/公告号CN106919002B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-11-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社尼康;

    申请/专利号CN201610832366.4

  • 发明设计人 柴崎佑一;

    申请日2012-12-28

  • 分类号G03F7/20(20060101);H01L21/683(20060101);

  • 代理机构11127 北京三友知识产权代理有限公司;

  • 代理人王涛

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 10:21:53

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-11-27

    授权

    授权

  • 2017-07-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20121228

    实质审查的生效

  • 2017-07-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20121228

    实质审查的生效

  • 2017-07-04

    公开

    公开

  • 2017-07-04

    公开

    公开

  • 2017-07-04

    公开

    公开

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