公开/公告号CN104713502B
专利类型发明专利
公开/公告日2018-11-30
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML控股股份有限公司;
申请/专利号CN201510100335.5
发明设计人 G·A·斯库尔特兹;
申请日2009-02-17
分类号
代理机构中科专利商标代理有限责任公司;
代理人张启程
地址 荷兰维德霍温
入库时间 2022-08-23 10:21:11
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-11-30
授权
授权
2015-07-15
实质审查的生效 IPC(主分类):G01B13/12 申请日:20090217
实质审查的生效
2015-07-15
实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 13/12 申请日:20090217
实质审查的生效
2015-06-17
公开
公开
2015-06-17
公开
公开
机译: 带有可调曝光槽形状的光刻设备,可减少由于底层拓扑和设备制造方法而导致的焦点错误的减少
机译: 使用具有可调曝光扇形形状的基体拓扑来抑制焦点错误的光刻设备及其制造方法
机译: 具有改善的曝光区域焦点的光刻设备,器件制造方法以及由此制造的器件