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气体压力计、光刻设备及在光刻曝光工具上设定焦点的方法

摘要

在本发明的一个实施例中,提供一种用于真空环境中的气体压力计、光刻设备及在光刻曝光工具上设定焦点的方法。所述气体压力计包括:在测量气流通道中的测量喷嘴。所述测量喷嘴配置成在来源于连接到所述测量气流通道的气体源的体积流动的音速阻扼流动条件下操作。气体压力计还包括压力传感器,其可操作地连接到测量气流通道、在所述体积流动的音速阻扼流动条件的下游,以便测量所述体积流动的压差,用于提供对所述测量喷嘴的末端和与其邻近的目标表面之间的间隙的指示。

著录项

  • 公开/公告号CN104713502B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-11-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML控股股份有限公司;

    申请/专利号CN201510100335.5

  • 发明设计人 G·A·斯库尔特兹;

    申请日2009-02-17

  • 分类号

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人张启程

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2022-08-23 10:21:11

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-11-30

    授权

    授权

  • 2015-07-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B13/12 申请日:20090217

    实质审查的生效

  • 2015-07-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 13/12 申请日:20090217

    实质审查的生效

  • 2015-06-17

    公开

    公开

  • 2015-06-17

    公开

    公开

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