首页> 中国专利> 一种通过阴极还原电沉积和化学沉积制备Cu2O/CuI电极的方法

一种通过阴极还原电沉积和化学沉积制备Cu2O/CuI电极的方法

摘要

本发明公开了一种通过阴极还原电沉积和化学沉积制备Cu2O/CuI电极的方法。该方法通过电沉积来制备Cu2O薄膜,再将Cu2O放入KI的弱酸性溶液中化学沉积一层CuI的方法得到Cu2O/CuI电极。本发明的特点是以阴极还原的方法于乳酸和Cu2+络合的碱性混合电解液中,在60℃下进行恒电位电沉积,较短时间内就可在ITO导电玻璃上得到具有金字塔状形貌的Cu2O薄膜电极。本发明使用的原料成本低廉,设备简单,操作简便快速,同时具有环境友好等优点。

著录项

  • 公开/公告号CN107299371B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-11-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江大学;

    申请/专利号CN201710305132.9

  • 发明设计人 刘润;陆可丹;

    申请日2017-05-03

  • 分类号C25D9/04(20060101);C23C28/04(20060101);

  • 代理机构33200 杭州求是专利事务所有限公司;

  • 代理人张法高;傅朝栋

  • 地址 310058 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号

  • 入库时间 2022-08-23 10:21:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-11-20

    授权

    授权

  • 2017-11-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):C25D9/04 申请日:20170503

    实质审查的生效

  • 2017-11-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):C25D 9/04 申请日:20170503

    实质审查的生效

  • 2017-10-27

    公开

    公开

  • 2017-10-27

    公开

    公开

  • 2017-10-27

    公开

    公开

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