法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-11-20
授权
授权
2016-12-07
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/32 申请日:20131105
实质审查的生效
2016-12-07
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20131105
实质审查的生效
2016-06-22
公开
公开
2016-06-22
公开
公开
机译: 用于溅射沉积源的磁性装置,磁控溅射沉积源以及利用磁控溅射沉积源在基板上沉积膜的方法
机译: 溅射沉积源,溅射沉积设备和用于为溅射沉积源供电的方法
机译: 溅射沉积源,溅射沉积设备和操作溅射沉积源的方法