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用于光瞳对称化的方法和设备

摘要

一种检查设备可以使用光瞳对称化器确定衬底上目标的精确OV测量值以减小检查设备对于光瞳面中照射光束的非对称性和非均匀性的敏感性。检查设备包括照射系统,其通过(1)分割照射束为子光束,(2)引导子光束沿着不同光学分支,(3)在两个维度中反转或旋转至少一个子光束,并且沿着照射路径重新组合子光束以对称化强度分布,从而形成了对称照射光瞳。进一步配置照射系统以使得第一子光束和第二子光束具有大于至少一个光源的时间相干性长度并小于物镜光学系统的光瞳面中焦深的光程差。

著录项

  • 公开/公告号CN107003624B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-11-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML控股股份有限公司;

    申请/专利号CN201580068285.5

  • 发明设计人 Y·K·斯玛雷弗;S·斯米尔诺夫;

    申请日2015-11-19

  • 分类号

  • 代理机构北京市金杜律师事务所;

  • 代理人王茂华

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2022-08-23 10:20:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-11-06

    授权

    授权

  • 2017-08-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20151119

    实质审查的生效

  • 2017-08-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20151119

    实质审查的生效

  • 2017-08-01

    公开

    公开

  • 2017-08-01

    公开

    公开

  • 2017-08-01

    公开

    公开

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