公开/公告号CN107003624B
专利类型发明专利
公开/公告日2018-11-06
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML控股股份有限公司;
申请/专利号CN201580068285.5
申请日2015-11-19
分类号
代理机构北京市金杜律师事务所;
代理人王茂华
地址 荷兰维德霍温
入库时间 2022-08-23 10:20:27
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-11-06
授权
授权
2017-08-25
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20151119
实质审查的生效
2017-08-25
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20151119
实质审查的生效
2017-08-01
公开
公开
2017-08-01
公开
公开
2017-08-01
公开
公开
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机译: 用于投影曝光系统的照明光学单元,具有光瞳刻面镜,该光瞳刻面镜被设置为使得内部组中的光瞳刻面的数量被设置为与外部组中的光瞳刻面的数量不同。
机译: 用于光瞳对称的方法和设备
机译: 用于产生多个出射光瞳图像以扩大出射光瞳的设备和方法