首页> 中国专利> ReRAM单元中的场聚集特征部

ReRAM单元中的场聚集特征部

摘要

本发明涉及ReRAM单元中的场聚集特征部。电阻式随机存取存储器(ReRAM)单元(401)包括第一导电电极(107)和在所述第一导电电极之上的电介质存储材料层。所述电介质存储材料层(109)在将细丝形成电压施加到所述单元期间有助于导电细丝的形成。所述单元包括在所述电介质存储材料层之上的第二导电电极(301)以及包括不通过光刻限定的多个散置的场聚集特征部(407)的界面区域。所述界面区域位于所述第一导电电极和所述电介质存储材料层之间或位于所述电介质存储材料层和所述第二导电电极之间。

著录项

  • 公开/公告号CN103456883B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-10-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 恩智浦美国有限公司;

    申请/专利号CN201310205005.3

  • 申请日2013-05-29

  • 分类号

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人陈华成

  • 地址 美国得克萨斯

  • 入库时间 2022-08-23 10:18:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-10-23

    授权

    授权

  • 2017-11-21

    著录事项变更 IPC(主分类):H01L45/00 变更前: 变更后: 申请日:20130529

    著录事项变更

  • 2017-11-21

    著录事项变更 IPC(主分类):H01L 45/00 变更前: 变更后: 申请日:20130529

    著录事项变更

  • 2015-07-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L45/00 申请日:20130529

    实质审查的生效

  • 2015-07-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 45/00 申请日:20130529

    实质审查的生效

  • 2015-07-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 45/00 申请日:20130529

    实质审查的生效

  • 2013-12-18

    公开

    公开

  • 2013-12-18

    公开

    公开

  • 2013-12-18

    公开

    公开

查看全部

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号