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将物场成像到像场中的成像光学单元,以及包括这种成像光学单元的投射曝光设备

摘要

本发明涉及投射光刻的成像光学单元(7),其具有多个反射镜(M1至M8),以将成像光(3)从物场(4)引导到像场(8)中。物场(4)沿着第一、较大物场尺寸和沿着第二、较小物场尺寸由两个物场坐标(x,y)跨越。成像光学单元(7)具有至少两个掠入射反射镜(M2,M3,M5,M6)和至少一个法线入射反射镜(M4),该法线入射反射镜(M4)布置在成像光束路径中的两个掠入射反射镜(M3,M5)之间。该法线入射反射镜(M4)的采用的反射表面具有在沿着第一反射表面坐标(x)的表面尺寸和沿着平行于第二物场尺寸的第二反射表面坐标(y)的表面尺寸之间的纵横比(x/y),该纵横比小于4.5。结果是具有制造成本减少的成像光学单元。

著录项

  • 公开/公告号CN108292032B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 卡尔蔡司SMT有限责任公司;

    申请/专利号CN201680065535.4

  • 发明设计人 A.沃尔夫;H-J.罗斯塔尔斯基;

    申请日2016-11-07

  • 分类号G02B17/06(20060101);G03F7/20(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人邱军;王蕊瑞

  • 地址 德国上科亨

  • 入库时间 2022-08-23 11:36:04

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