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具有插入层的磁性结和使用该磁性结的磁存储器

摘要

本发明提供了用于提供在磁性器件中可使用的磁性结的方法和系统。磁性结包括基准层、非磁间隔层、和自由层,所述非磁间隔层在所述基准层和所述自由层之间。所述磁性结被配置为使得当写入电流流经所述磁性结时所述自由层在多个稳定的磁状态之间可切换。所述磁性结的部分包括至少一个磁性子结构。所述磁性子结构包括至少一个Fe层和至少一个非磁插入层。所述至少一个Fe层与所述至少一个非磁插入层共享至少一个界面。所述至少一个非磁插入层的每个非磁插入层由W、I、Hf、Bi、Zn、Mo、Ag、Cd、Os和In中的至少一种组成。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-10-26

    授权

    授权

  • 2016-03-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L43/08 申请日:20140314

    实质审查的生效

  • 2016-03-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 43/08 申请日:20140314

    实质审查的生效

  • 2014-09-17

    公开

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  • 2014-09-17

    公开

    公开

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