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生长在钇铝石榴石衬底上的GaN薄膜及其制备方法、应用

摘要

本发明公开了一种生长在钇铝石榴石衬底上的GaN薄膜,包括钇铝石榴石衬底和GaN薄膜;所述GaN薄膜外延生长在所述钇铝石榴石衬底上;所述钇铝石榴石衬底以(111)面偏(100)面0.5‑1°为外延面,所述钇铝石榴石衬底和所述GaN薄膜的取向关系为:GaN薄膜的(0001)面平行于钇铝石榴石衬底的(111)面。该GaN薄膜的晶体质量好。本发明还公开了所述生长在钇铝石榴石衬底上的GaN薄膜的制备方法,该制备方法工艺简单,制备成本低廉。另外,本发明还把所述生长在钇铝石榴石衬底上的GaN薄膜应用于LED器件、光电探测器、太阳能电池器件中。

著录项

  • 公开/公告号CN105977138B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-09-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 河源市众拓光电科技有限公司;

    申请/专利号CN201610553010.7

  • 发明设计人 李国强;

    申请日2016-07-12

  • 分类号

  • 代理机构广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人陈振楔

  • 地址 517000 广东省河源市高新技术开发区兴业大道东边、高新一路创业服务中心三楼317室

  • 入库时间 2022-08-23 10:17:40

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-09-28

    授权

    授权

  • 2016-10-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/02 申请日:20160712

    实质审查的生效

  • 2016-10-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20160712

    实质审查的生效

  • 2016-09-28

    公开

    公开

  • 2016-09-28

    公开

    公开

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